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Pluto-MD(8L)小型等離子去膠機(jī)-視頻在線觀看

發(fā)布時(shí)間:2023-02-28      點(diǎn)擊次數(shù):982
  去膠工藝是微加工過程中一個(gè)重要的過程,在電子束曝光,紫外曝光等微納米加工工藝后,都要對(duì)光刻膠進(jìn)行去除或打底膜處理。光刻膠是否去除干凈對(duì)樣片是否有損傷等問題,將直接影響后續(xù)工藝的順利完成。PLUTO-MD小型去膠機(jī)使用性能出色的組件和軟件,可對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行精確控制。它的工藝監(jiān)測(cè)和數(shù)據(jù)采集軟件可實(shí)現(xiàn)嚴(yán)格的質(zhì)量控制。該技術(shù)已經(jīng)成功的應(yīng)用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學(xué)器件、光電、EMS/MOEMS、生物器件、LED等領(lǐng)域。
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